須川 成利 教授

長平 彰夫←須川 成利→黒田 理人
実践技術経営融合講座
技術適応計画分野
研究室サイト:
http://www.sgw.most.tohoku.ac.jp/

私たちは、新規な半導体集積プロセス・デバイス・回路技術を研究開発の基盤として、高度なヒューマン・インターフェース・システムの実現を目指して います。こうしたシステムを実現するには、一つの学問分野にとどまらない幅広く深遠な知識と技術を完全に使いこなさなければなりません。 学生の皆さんには、世界をリードするレベルの先進の半導体集積プロセス・デバイス・回路技術に関わる知識と技術のみならず、トータルシステムを 理解し技術を本質的かつ総合的にとらえる能力と、技術を経営資源として昇華させるまでのプロセスが身につくよう指導します。また、海外への出張 や企業の方々との接触なども盛んに行って、世界を肌で感じてもらいます。 研究活動の場は、総合研究棟と未来情報産業研究館が中心となります。 企業との共同研究も数多く行っています。 現在は、

  • 微細トランジスタの性能を革新する新規プロセス・デバイス
  • 1電子のゆらぎもとらえる大規模テスト回路によるばらつき・ノイズ・リーク電流高速高精度計測
  • 画期的なデバイス構造を作り上げる極低ダメージプラズマ装置・プロセス
  • 超精密ステージとMEMSデジタル・ミラー・デバイスを使用したレーザー描画リソグラフィー
  • 新有機材料と平坦金属配線を用いた新規な低損失・超低消費電力伝送配線基板
  • 高性能集積トランジスタの性能を極限まで高める多層金属配線・低誘電率絶縁膜
  • 人間の目を超える広ダイナミックレンジイメージセンサ
  • 1光子検出に迫る高S/Nイメージセンサ
  • 毎秒10,000,000枚撮像を行える超高速イメージセンサ

などの研究に取り組んでおり、いずれにおいても世界初の画期的な研究成果を挙げています。 また、上述したばらつき・ノイズ・リーク電流高速高精度計測システムや広ダイナミックレンジイメージセンサは 製品として実用化され社会に貢献しています。 世界最先端の研究を一緒にやってみませんか。 熱き情熱をもった皆さんの参画を歓迎いたします。