黒田 理人 准教授

須川 成利←黒田 理人→杉田 典大
実践技術経営融合講座
技術適応計画分野
研究室サイト:
http://www.sgw.most.tohoku.ac.jp/

自己PR

私は極限に制御されたプロセス技術、新規デバイス構造を応用した極低ノイズ、 低消費電力システムの創出を目指して研究開発を行っております。

半導体集積回路技術は材料、製造プロセス技術、デバイス、回路技術、ソフトウェア技術などの 様々な分野が結集されたまさに総合技術で成り立っています。世界中まだ誰も届いたことがない目標に到達し、それを付加価値とした製品を作るためには、原理原則に基づいた各分野の技術を発展させると共に、その強みを引き出すために周辺分野の技術や、知的財産管理などについても1つも抜けなく網羅して課題を突破しなくてはなりません。そのためには、1つの分野の技術を突き詰めるのは当然ながら、様々な分野の技術を理解し、適所で使えるようになる必要があります。これには、 継続的に自分の知識を深くかつ広げる努力をすると共に、様々な専門分野のスペシャリストを 数多く自分の仲間にする必要があると考えます。技術適応計画分野では、様々な分野で活躍する方々と 協力関係を築いており、バイタリティの高い学生、研究員、社会人ドクターが切磋琢磨して 日々研究開発に取り組んでおります。また、必要なことは全て行い目的を達成することを常に目指しており、そのために必要な施設、設備が利用可能になっております。 このような環境で一緒に研究開発に取り組んでみたいと思う方、是非研究室を見に来てください。